ASML, mexxejja globali fis-sistemi tal-litografija tas-semikondutturi, dan l-aħħar ħabbret l-iżvilupp ta’ teknoloġija ġdida tal-litografija ultravjola estrema (EUV). Din it-teknoloġija hija mistennija li ttejjeb b’mod sinifikanti l-preċiżjoni tal-manifattura tas-semikondutturi, u b’hekk tippermetti l-produzzjoni ta’ ċipep b’karatteristiċi iżgħar u prestazzjoni ogħla.
Is-sistema l-ġdida tal-litografija EUV tista' tikseb riżoluzzjoni sa 1.5 nanometri, titjib sostanzjali fuq il-ġenerazzjoni attwali ta' għodod tal-litografija. Din il-preċiżjoni mtejba se jkollha impatt profond fuq il-materjali tal-ippakkjar tas-semikondutturi. Hekk kif iċ-ċipep isiru iżgħar u aktar kumplessi, id-domanda għal tejps trasportaturi ta' preċiżjoni għolja, tejps tal-kisi, u rukkelli biex jiżguraw it-trasport u l-ħażna sikuri ta' dawn il-komponenti ċkejkna se tiżdied.
Il-kumpanija tagħna hija impenjata li ssegwi mill-qrib dawn l-avvanzi teknoloġiċi fl-industrija tas-semikondutturi. Se nkomplu ninvestu fir-riċerka u l-iżvilupp biex niżviluppaw materjali tal-ippakkjar li jistgħu jissodisfaw ir-rekwiżiti l-ġodda li ġabet magħha t-teknoloġija litografika l-ġdida tal-ASML, u b'hekk jipprovdu appoġġ affidabbli għall-proċess tal-manifattura tas-semikondutturi.
Ħin tal-posta: 17 ta' Frar 2025