ASML, mexxej globali fis-sistemi tal-litografija tas-semikondutturi, reċentement ħabbar l-iżvilupp ta 'teknoloġija ta' litografija ultravjola estrema ġdida (EUV). Din it-teknoloġija hija mistennija li ttejjeb b'mod sinifikanti l-preċiżjoni tal-manifattura tas-semikondutturi, li tippermetti l-produzzjoni ta 'ċipep b'karatteristiċi iżgħar u prestazzjoni ogħla.
Is-sistema l-ġdida tal-litografija tal-EUV tista 'tikseb riżoluzzjoni ta' sa 1.5 nanometri, titjib sostanzjali fuq il-ġenerazzjoni attwali ta 'għodod ta' litografija. Din il-preċiżjoni msaħħa se jkollha impatt profond fuq materjali tal-imballaġġ tas-semikondutturi. Hekk kif iċ-ċipep isiru iżgħar u aktar kumplessi, id-domanda għal tejps ta 'trasportatur ta' preċiżjoni għolja, tejps tal-kopertura, u rukkelli biex tiżgura li t-trasport u l-ħażna sikuri ta 'dawn il-komponenti ċkejkna jiżdiedu.
Il-kumpanija tagħna hija impenjata li ssegwi mill-qrib dawn l-avvanzi teknoloġiċi fl-industrija tas-semikondutturi. Se nkomplu ninvestu fir-riċerka u l-iżvilupp biex niżviluppaw materjali tal-imballaġġ li jistgħu jissodisfaw ir-rekwiżiti l-ġodda li jinġiebu mit-teknoloġija tal-litografija l-ġdida tal-ASML, li tipprovdi appoġġ affidabbli għall-proċess tal-manifattura tas-semikondutturi.
Ħin ta 'wara: Frar-17-2025